光化学离子设备技术特点
1. 光化学技术是一种经济有效的实用技术：通常处理的恶臭气体具有量大、浓度低的特点，极适合光化学反应这一低耗高效的处理技术。
2. 反应速度快，除臭效果优良：辐照场和氧存在着一个协同作用，试验表明这种协同作用使该技术对恶臭去除的速率得到7至9个数量级的增加，这样设备的体积小，占地和空间小，尤其对于改造，增设的情况。
3. 模块化的产品构造，可以灵活搭配使用，适合臭气源分块、分期独立处理。4. 设备运行稳定：设备内部无高温高压等特殊部件，耐腐蚀，运行安全稳定，武汉voc废气处理，开启后无需特别的保养管理。
5. 设备的维护工作量小：光/氧反应过程受外部环境影响甚小，除臭效果可以较持续稳定，管路维护工作简单。
6. 设备风阻小，仅有250Pa左右，荆门voc废气处理，运行费用低，操作简单方便。
7. 设备的核心部件--反射管采用高级品质的进口光源，可稳定、高效的输出反应所需的短波光子能量，使用寿命长。
8. 设备可设定就地手动控制、PLC自动控制；设定设备的正常运行、经济运行模式；提供远程传递运行信息与故障等信号。
恶臭处理系统的运行条件控制
散水方式及散水周期：洗涤床预洗区为连续循环散水，襄阳voc废气处理，生物滤床过滤区为间歇式散水。散水周期视处理对象而定，一般设定为2 ～ 24 次/d。主要是保证生物滤床的湿度适中，若过于干燥，微生物将失去活性; 若湿度过高，固体填料表面的水膜加厚，通气的压力损失增大，阻碍气体流动。因此，散水周期的确定既要确保微生物活性，又要确保空气溶解接触效率。为促进微生物生长加速挂膜，在菌种驯育期间应采用连续散水方式。
温度控制：大部分脱臭微生物的生存温度为10 ～ 50 ℃，在35 ℃左右，此时微生物活性最强。因此，将滤床温度控制在35 ℃左右，以利于微生物的生长繁殖，提高除臭效率。
pH 值控制：整个系统pH 值一般应该维持在6 ～ 8 范围内，如pH 值有所下降，说明微生物在正常发挥作用，系统运行正常。当pH 值下降至3 及以下时，菌群将被破坏，需及时加碱性物质将系统pH 值调至中性，voc废气处理，以维持系统的正常运行。
营养成分的投加：微生物的生长繁殖过程需要合理的营养搭配，以使其处于极佳的生理活动状态。主要营养物质有碳、氮、磷等。臭气成分中本身含氮，氮元素是过量的，而碳源则较为缺乏，需根据情况随时添加碳源，较为适宜的碳氮比为20 ～ 35 之间。磷也要适当添加，而且磷酸盐对去除氨类物质有利。
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