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光化学离子设备除臭原理光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法,除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种高级氧化技术,综合利用了高强辐照场离子对恶臭物质...


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光化学离子设备除臭原理

光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法,除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种高级氧化技术,综合利用了高强辐照场离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中硫化氢、氨、甲硫醇等VOC(挥发性有机物),并利用了水与氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂(OH自由基)来氧化分解恶臭气体,改变臭气分子的物化特性,最终污染物质被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以达到除臭目的。高强辐射场和氧一道,绍兴离子除臭,存在一个协同作用,离子除臭,这种协同作用使该技术对恶臭去除臭的速率得到7至9个数量级的增加,即反应速度增加千万至十亿倍。整个除臭过程中受外界影响少,所有的产物对人体及空气无影响,不产生二次污染物。



污水厂除臭技术的几种方法

近年来,随着大型城市污水处理厂的大量建成,作为污水厂附属产品的臭气,以及相应的臭气处理也越来越受到人们的关注。城市污水处理过程中产生的臭气主要集中在进水泵房、初沉池、曝气池、储泥池、污泥浓缩池、污泥脱水机房以及堆棚处。这些机器在运行过程中产生的臭味大致有鱼腥臭、氨臭、腐肉臭、腐蛋臭、腐甘蓝臭、粪臭以及某些生产废水的特殊臭味。这些臭气具有易挥发、嗅阈值低等特点,不仅严重污染周边居民的生活环境,危害人体健康,而且对污水处理厂的金属材料、设备和管道具有强烈腐蚀性。因此,采取除臭措施非常必要。

目前,污水处理厂工程上常用恶臭气体处理技术有生物滤池、生物滴滤塔、生物滤床、植物提取液除臭、活性炭吸附、高能离子除臭、化学除臭、活性氧除臭、土壤脱臭法等。


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