光化学离子设备除臭原理
光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法，除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种高级氧化技术，综合利用了高强辐照场离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中硫化氢、氨、甲硫醇等VOC（挥发性有机物），污水处理厂除臭工艺，并利用了水与氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂（OH自由基）来氧化分解恶臭气体，污水处理厂除臭，改变臭气分子的物化特性，最终污染物质被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以达到除臭目的。高强辐射场和氧一道，存在一个协同作用，这种协同作用使该技术对恶臭去除臭的速率得到7至9个数量级的增加，即反应速度增加千万至十亿倍。整个除臭过程中受外界影响少，所有的产物对人体及空气无影响，污水处理厂除臭设备，不产生二次污染物。
除臭技术工艺——脱臭方法：吸附法
众所周知，恶臭气体主要产生在污水处理过程中的排污泵站、进水格栅、曝气沉沙池，污泥处理设施以及污泥处理过程中的污泥浓缩、脱水干化、转运、热干化、堆肥等处。不同的处理设施及过程会产生各种不同的恶臭气体。这里就涉及到今天我们要谈到的话题——除臭技术工艺！
吸附法
脱臭原理：利用吸附剂的吸附功能使恶臭物质由气相转移至固相
适用范围：适用于处理低浓度，高净化要求的恶臭气体
优点：净化效率很高，可以处理多组分恶臭气体
缺点：吸附剂费用昂贵，再生较困难，要求待处理的恶臭气体有较低的温度和含尘量
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